Aixtron treibt mit OSU-Partnerschaft die Halbleiter der **nächsten Generation** voran

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Eine Gruppe von Menschen, die um einen Tisch herum auf Stühlen sitzen und auf einen Laptop schauen, mit mehreren Flyern mit verschiedenen Werbeanzeigen daneben.

Aixtron treibt mit OSU-Partnerschaft die Halbleiter der **nächsten Generation** voran

Aixtron stärkt Rolle in der Halbleitertechnologie der nächsten Generation durch Partnerschaft mit der Ohio State University

Der Halbleiterausrüster Aixtron hat seine führende Position in der Entwicklung von Halbleitern der nächsten Generation durch eine neue Kooperation mit der Ohio State University (OSU) weiter ausgebaut. Das Unternehmen stellt sein hochmodernes MOCVD-System für die Erforschung von Galliumoxid zur Verfügung – ein Material, das die Leistungselektronik revolutionieren könnte. Die Zusammenarbeit unterstreicht Aixtrons Spitzenstellung bei der Entwicklung von Halbleitern mit extrem großer Bandlücke.

Im Nanotech West Lab der OSU, das vom Institute for Materials and Manufacturing Research betrieben wird, wurde Aixtrons Close Coupled Showerhead® (CCS)-System installiert. Diese spezialisierte Anlage ermöglicht das epitaktische Wachstum von Galliumoxid und Aluminium-Galliumoxid auf 100-Millimeter-Substraten. Das System garantiert hochwertige, gleichmäßige Dünnschichten und festigt damit Aixtrons Ruf für herausragende Materialqualität.

Galliumoxid gewinnt zunehmend an Bedeutung, da es unter extremen Bedingungen – etwa bei hohen Spannungen und Temperaturen – herausragende Leistungen erbringt. Diese Eigenschaften machen es zu einem vielversprechenden Kandidaten für die Leistungselektronik der Zukunft. Durch die Bereitstellung des CCS-MOCVD-Systems für die OSU treibt Aixtron die Entwicklung von Halbleiterkomponenten der nächsten Generation voran.

Die Partnerschaft festigt Aixtrons Position als Technologieführer im Bereich der metallorganischen chemischen Gasphasenabscheidung (MOCVD). Mit dem frühen Zugang zu Galliumoxid-Forschung sichert sich das Unternehmen eine Vorreiterrolle in der Halbleiterinnovation. Die Investoren zeigen sich optimistisch: Die Aixtron-Aktie notiert derzeit bei 18,79 Euro und liegt damit deutlich über dem 200-Tage-Durchschnitt.

Die Zusammenarbeit zwischen Aixtron und der OSU markiert einen wichtigen Schritt in der Weiterentwicklung der Galliumoxid-Technologie. Das CCS-System des Unternehmens wird eine Schlüsselrolle bei der Entwicklung hochleistungsfähiger Halbleitermaterialien spielen. Gleichzeitig deutet die aktuelle Aktienperformance auf wachsendes Marktvertrauen in die Zukunftsaussichten von Aixtron hin.

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